目前的大规模芯片制造，都是采用光刻工艺。

光刻工艺就需要光刻胶，是与光刻机配套的，光刻胶涂在硅晶圆上，然后光刻机的光线照射在涂了光刻胶的硅晶圆上，产生光化学反应，将芯片电路图就留在了硅晶圆上。

光刻机与光刻胶，与芯片工艺，是一一对应的。

在整个光刻胶领域，日本是处于垄断地位的，日本的合成橡胶(JSR)、信越化学、东京应化等企业，合计占据了全球70%的份额，处于垄断地位。

虽然中国这些年虽然光刻机发展非常快，但自给率依然不高，可能还不到20%，有80-90%需要进口，其中日本又是我们进口的大头，占到了55%左右。

数据显示，2024年，中国从日本进口的光刻胶，就达到了13.6亿美元（约100亿元人民币。）

从具体的光刻胶种类来看，中国自给率较高的，主要是相对成熟的，而一些先进的光刻胶，进口比例就非常大。

比如7nm以下的EUV光刻胶，100%需要进口，而90nm-7nm制程用ArF光刻胶，大约是90%需要进口，28nm-90nm制程用KrF光刻胶，则60%以上需要进口。

可见，光刻胶方面，我们确实还有很长的路要走，要补的课也非常多。

关键是近日，有消息传出，日本企业或开始对中国暂停出口光刻胶了，虽然日本内阁官房长官木原稔称“没有断供，贸易政策也未改变”，但事实上，很多媒体都称，这些企业已经收紧了出口，现在要出口光刻胶到中国，没那么容易和简单了。

而《亚洲时报》更是称，事实上已经开始断代了，并且称这或许是“中国担忧的最坏情况”。

可能很多人不理解，光刻胶这玩意，看起来不复杂，为何我们研发不出来呢？

事实上，光刻胶牵涉到化学、物理、材料等很多基础科学，从0开始起步，还真的不容易，而日本有先发优势，基于原来的基础，持续研发改进，相对容易的多。

另外，光刻胶市场并不大，上面讲到了，2004年中国从日本进口金额是100亿，实际上中国市场的需求，可能200亿不到，规模不大，意味着企业如果加大投入，花巨资来研发，未来未必能够有很好的回报，投入产出比并不成正比，所以一般的企业，也不会花巨大的成本来研发，那么发展速度就不会那么快。

但是，如果日本敢断供，情况就不一样了，当自己没有的用的时候，国产光刻胶就必须顶上来了，否则就麻烦了。

另外，值得注意的是，目前国内的芯片工艺，并不算太先进，所以需要的光刻胶，相对而言也不要那么的先进，所以替代起来相对也容易些。